哈尔滨工程大学学报2020，Vol.41Issue(2)：219-226,8.DOI:10.11990/jheu.201911016
高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜研究进展
Recent progress on the preparation of VO2 thin films by high-power impulse magnetron sputtering technology
摘要
关键词
二氧化钒/热致变色/透过光谱/相变特性/高能脉冲/磁控溅射/放电特性/沉积温度分类
通用工业技术引用本文复制引用
谷金鑫,魏航,任飞飞,李龙,范青潽,赵九蓬,豆书亮,李垚..高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜研究进展[J].哈尔滨工程大学学报,2020,41(2):219-226,8.基金项目
国家自然科学基金项目(51572058,51902073) （51572058,51902073）
中央高校基本科研业务费专项基金(HIT.NSRIF.2020019) （HIT.NSRIF.2020019）
装备发展部领域基金(6140922010901) （6140922010901）
中国博士后科学基金项目(2019M661273) （2019M661273）
黑龙江省博士后科学基金(LBH-Z19159). （LBH-Z19159）
