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基底偏压对磁控溅射沉积MoSi2薄膜结构及力学性能的影响

易旭阳 李继文 刘伟 魏世忠 徐流杰 杨景红

河南科技大学学报（自然科学版）2020，Vol.41Issue(5)：1-7,12,8.
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河南科技大学学报（自然科学版）2020，Vol.41Issue(5)：1-7,12,8.DOI:10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.05.001

基底偏压对磁控溅射沉积MoSi2薄膜结构及力学性能的影响

易旭阳 1李继文 1刘伟 1魏世忠 2徐流杰 2杨景红3

作者信息

  • 1. 河南科技大学 材料科学与工程学院,河南 洛阳471000
  • 2. 河南科技大学 金属材料磨损与成型控制国家与地方联合工程研究中心,河南 洛阳471000
  • 3. 洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司,河南 洛阳 471822
  • 折叠

摘要

关键词

直流磁控溅射/MoSi2薄膜/基底偏压/薄膜形貌/弹性模量/纳米硬度

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

易旭阳,李继文,刘伟,魏世忠,徐流杰,杨景红..基底偏压对磁控溅射沉积MoSi2薄膜结构及力学性能的影响[J].河南科技大学学报（自然科学版）,2020,41(5):1-7,12,8.

基金项目

国家"十三五"重点研发计划基金项目(2017YFB0306000) （2017YFB0306000）

国家自然科学基金项目(U1704152) （U1704152）

河南科技大学学报（自然科学版）

OA北大核心CSTPCD

1672-6871

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