影像科学与光化学2020，Vol.38Issue(3)：430-435,6.DOI:10.7517/issn.1674-0475.191014
248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展
Development of Matrix Resins for 248 nm Deep UV Photoresist
摘要
关键词
光刻胶/成膜树脂/化学增幅型/曝光引用本文复制引用
魏孜博,马文超,邱迎昕..248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展[J].影像科学与光化学,2020,38(3):430-435,6.基金项目
中石化总部项目(G3365-2019-Z1912) （G3365-2019-Z1912）
