| 注册
首页|期刊导航|太阳能|低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究

低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究

赵增超 李明 周小荣 郭艳 黄嘉斌

太阳能Issue(6):55-59,5.
太阳能Issue(6):55-59,5.

低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究

PERFORMANCE RESEARCH OF AlOx /SiNx PASSIVATION FILMS DEPOSITED BY LOW FREQUENCY PECVD

赵增超 1李明 1周小荣 1郭艳 1黄嘉斌1

作者信息

  • 1. 湖南红太阳光电科技有限公司,长沙 410013
  • 折叠

摘要

关键词

低频PECVD设备/氧化铝/少子寿命/等离子体表面处理/钝化/太阳电池

分类

数理科学

引用本文复制引用

赵增超,李明,周小荣,郭艳,黄嘉斌..低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究[J].太阳能,2020,(6):55-59,5.

基金项目

湖南省创新型省份建设专项——湖南省晶体硅太阳能电池工程技术研究中心(2019TP2048) (2019TP2048)

太阳能

1003-0417

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文