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130 nm加固SOI工艺的抗辐射控制芯片设计

常永伟 余超 刘海静 王正 董业民

国防科技大学学报2020,Vol.42Issue(3):17-21,5.
国防科技大学学报2020,Vol.42Issue(3):17-21,5.DOI:10.11887/j.cn.202003003

130 nm加固SOI工艺的抗辐射控制芯片设计

Design of radiation-tolerant controller chip in 130 nm hardened SOI process

常永伟 1余超 1刘海静 2王正 1董业民1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室, 上海 200050
  • 2. 中国科学院大学, 北京 100049
  • 折叠

摘要

关键词

集成电路/抗辐射/绝缘体上硅/控制芯片

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

常永伟,余超,刘海静,王正,董业民..130 nm加固SOI工艺的抗辐射控制芯片设计[J].国防科技大学学报,2020,42(3):17-21,5.

基金项目

中科院重点部署资助项目(KGFZD-135-16-015) (KGFZD-135-16-015)

国防科技大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2486

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