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退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响

刘浩 马平 蒲云体 赵祖珍

强激光与粒子束2020，Vol.32Issue(7)：7-14,8.
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强激光与粒子束2020，Vol.32Issue(7)：7-14,8.DOI:10.11884/HPLPB202032.200006

退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响

Impact of annealing on laser resistance of HfO2 films fabricated by ALD, IBS and EBE techniques

刘浩 1马平 2蒲云体 2赵祖珍1

作者信息

  • 1. 深圳清华大学研究院,广东深圳 518057
  • 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳 621900
  • 折叠

摘要

关键词

HfO2薄膜/激光损伤阈值/电子束蒸发/离子束溅射/原子层沉积

引用本文复制引用

刘浩,马平,蒲云体,赵祖珍..退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响[J].强激光与粒子束,2020,32(7):7-14,8.

基金项目

深圳市科技计划基础研究面上项目( JCYJ20190807142405649) （ JCYJ20190807142405649）

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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