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3300 V SiC MOSFET栅氧可靠性研究

陈宏 白云 陈喜明 李诚瞻

电源学报2020,Vol.18Issue(4):10-14,5.
电源学报2020,Vol.18Issue(4):10-14,5.DOI:10.13234/j.issn.2095-2805.2020.4.10

3300 V SiC MOSFET栅氧可靠性研究

Investigation on the Reliability of Gate Oxide in 3300 V SiC MOSFET

陈宏 1白云 1陈喜明 2李诚瞻2

作者信息

  • 1. 中国科学院微电子研究所,北京 100029
  • 2. 株洲中车时代半导体有限公司,株洲 412001
  • 折叠

摘要

关键词

3300 V SiC MOSFET/高温栅偏/栅氧/可靠性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈宏,白云,陈喜明,李诚瞻..3300 V SiC MOSFET栅氧可靠性研究[J].电源学报,2020,18(4):10-14,5.

基金项目

国家重点研发计划资助项目(2017YFB1200902) (2017YFB1200902)

电源学报

OA北大核心CSCD

2095-2805

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