飞控与探测2019，Vol.2Issue(1)：56-60,5.
高垂直度和低沉积的MEMS陀螺梳齿结构释放工艺
Study of Comb-shaped Structure Relaxation Process with High Vertical Degree and Less Production
摘要
关键词
MEMS陀螺/结构释放/深硅刻蚀/高垂直度/聚合物分类
航空航天引用本文复制引用
梁德春,庄海涵,李新坤,刘福民..高垂直度和低沉积的MEMS陀螺梳齿结构释放工艺[J].飞控与探测,2019,2(1):56-60,5.基金项目
装发部装备预研共用技术(41417010302) （41417010302）
科技部重大共性关键技术课题(2016YFB0501003) （2016YFB0501003）
