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萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用

孙小侠 司树伟 郑祥飞 刘敬成 穆启道

影像科学与光化学2020,Vol.38Issue(4):609-614,6.
影像科学与光化学2020,Vol.38Issue(4):609-614,6.DOI:10.7517/issn.1674-0475.200306

萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用

Synthesis of Naphthol-based Phenolic Resins and Its Application in Lift-off Photoresist

孙小侠 1司树伟 2郑祥飞 1刘敬成 2穆启道1

作者信息

  • 1. 江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122
  • 2. 苏州瑞红电子化学品有限公司,江苏苏州215124
  • 折叠

摘要

关键词

α-萘酚/酚醛树脂/正性光刻胶/NAPR-BOC/lift-off

引用本文复制引用

孙小侠,司树伟,郑祥飞,刘敬成,穆启道..萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用[J].影像科学与光化学,2020,38(4):609-614,6.

影像科学与光化学

OA北大核心CSTPCD

1674-0475

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