影像科学与光化学2020,Vol.38Issue(4):609-614,6.DOI:10.7517/issn.1674-0475.200306
萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用
Synthesis of Naphthol-based Phenolic Resins and Its Application in Lift-off Photoresist
孙小侠 1司树伟 2郑祥飞 1刘敬成 2穆启道1
作者信息
- 1. 江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122
- 2. 苏州瑞红电子化学品有限公司,江苏苏州215124
- 折叠
摘要
关键词
α-萘酚/酚醛树脂/正性光刻胶/NAPR-BOC/lift-off引用本文复制引用
孙小侠,司树伟,郑祥飞,刘敬成,穆启道..萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用[J].影像科学与光化学,2020,38(4):609-614,6.