|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|材料科学与工程学报|基于磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备技术优化及应用

基于磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备技术优化及应用

何长安 王庆国 曲兆明 邹俊 郭松茂 娄华康 王妍

材料科学与工程学报2020，Vol.38Issue(4)：629-632,589,5.
✕
材料科学与工程学报2020，Vol.38Issue(4)：629-632,589,5.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2020.04.020

基于磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备技术优化及应用

Optimization and Application of Vanadium Dioxide Thin Films by Using Magnetron Sputtering Method

何长安 1王庆国 2曲兆明 2邹俊 1郭松茂 1娄华康 1王妍2

作者信息

  • 1. 63601 部队,甘肃 酒泉 732750
  • 2. 陆军工程大学 强电磁场环境模拟与防护技术国防科技重点实验室,河北 石家庄 050003
  • 折叠

摘要

关键词

二氧化钒薄膜/退火处理/磁控溅射/晶体生长/卫星设计

分类

化学化工

引用本文复制引用

何长安,王庆国,曲兆明,邹俊,郭松茂,娄华康,王妍..基于磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备技术优化及应用[J].材料科学与工程学报,2020,38(4):629-632,589,5.

基金项目

武器装备探索研究资助项目(713 xxxxx) （713 xxxxx）

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文