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无机缓冲层对柔性AZO薄膜光电及耐弯曲性能的影响

陈成 陆慧

华东理工大学学报(自然科学版)2020,Vol.46Issue(4):573-578,6.
华东理工大学学报(自然科学版)2020,Vol.46Issue(4):573-578,6.DOI:10.14135/j.cnki.1006-3080.20190403001

无机缓冲层对柔性AZO薄膜光电及耐弯曲性能的影响

Effect of Inorganic Buffer Layers on the Photoelectric Properties and Bending Resistance Performance of Flexible AZO Films

陈成 1陆慧1

作者信息

  • 1. 华东理工大学物理系,上海 200237
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摘要

关键词

柔性AZO薄膜/磁控溅射/无机缓冲层/光电性质/耐弯曲特性

分类

数理科学

引用本文复制引用

陈成,陆慧..无机缓冲层对柔性AZO薄膜光电及耐弯曲性能的影响[J].华东理工大学学报(自然科学版),2020,46(4):573-578,6.

华东理工大学学报(自然科学版)

OA北大核心CHSSCDCSCD

1006-3080

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