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电弧离子镀偏压对TiAlSiN涂层结构及性能的影响

宋智辉 代明江 李洪 洪悦 林松盛 石倩 苏一凡

表面技术2020，Vol.49Issue(9)：306-314,9.
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表面技术2020，Vol.49Issue(9)：306-314,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.09.035

电弧离子镀偏压对TiAlSiN涂层结构及性能的影响

Effect of Arc Ion Plating Bias on Structure and Properties of TiAlSiN Films

宋智辉 1代明江 2李洪 1洪悦 2林松盛 2石倩 2苏一凡1

作者信息

  • 1. 广东工业大学 材料与能源学院,广州 510006
  • 2. 广东省新材料研究所 现代材料表面工程技术国家工程实验室 广东省现代表面工程技术重点实验室,广州 510651
  • 折叠

摘要

关键词

TiAlSiN/离子镀/偏压/结合力/耐磨性/高温氧化

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

宋智辉,代明江,李洪,洪悦,林松盛,石倩,苏一凡..电弧离子镀偏压对TiAlSiN涂层结构及性能的影响[J].表面技术,2020,49(9):306-314,9.

基金项目

国家重点研发计划项目(2016YFB0300400) （2016YFB0300400）

广东省科技计划项目(2020B010184001,2019BT02C629) （2020B010184001,2019BT02C629）

广东省科学院科技计划项目(2018GDASCX-0402) （2018GDASCX-0402）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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