真空电子技术Issue(4):34-36,40,4.DOI:10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2020.04.05
铼掺杂对碳化钍钨热电子阴极微观组织与力学性能的影响
Effects of Rhenium Doping on the Microstructure and Mechanical Properties of Th-W Carbonized Cathodes
摘要
关键词
铼掺杂/热电子阴极/碳化钍钨/晶粒度/韧性分类
数理科学引用本文复制引用
葛春桥,王贤友,王金淑,朱惠冲..铼掺杂对碳化钍钨热电子阴极微观组织与力学性能的影响[J].真空电子技术,2020,(4):34-36,40,4.基金项目
广东省省级科技计划项目(2013B090500083) (2013B090500083)