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铼掺杂对碳化钍钨热电子阴极微观组织与力学性能的影响

葛春桥 王贤友 王金淑 朱惠冲

真空电子技术Issue(4):34-36,40,4.
真空电子技术Issue(4):34-36,40,4.DOI:10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2020.04.05

铼掺杂对碳化钍钨热电子阴极微观组织与力学性能的影响

Effects of Rhenium Doping on the Microstructure and Mechanical Properties of Th-W Carbonized Cathodes

葛春桥 1王贤友 1王金淑 2朱惠冲3

作者信息

  • 1. 广东威特真空电子制造有限公司,广东佛山528311
  • 2. 北京工业大学材料科学与工程学院,北京100124
  • 3. 佛山宁宇科技股份有限公司,广东佛山528300
  • 折叠

摘要

关键词

铼掺杂/热电子阴极/碳化钍钨/晶粒度/韧性

分类

数理科学

引用本文复制引用

葛春桥,王贤友,王金淑,朱惠冲..铼掺杂对碳化钍钨热电子阴极微观组织与力学性能的影响[J].真空电子技术,2020,(4):34-36,40,4.

基金项目

广东省省级科技计划项目(2013B090500083) (2013B090500083)

真空电子技术

1002-8935

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