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单晶碳化硅的电磁场励磁大抛光模磁流变抛光

尹韶辉邓子默郭源帆刘坚黄帅尹建刚卢建刚彭博

表面技术2020，Vol.49Issue(10)：309-315,7.

表面技术2020，Vol.49Issue(10)：309-315,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.10.036

Magnetorheological Polishing Using Large Polishing Tool Excited by Electromagnetic Field for Silicon Carbide Wafer

尹韶辉 ¹邓子默 ¹郭源帆 ¹刘坚 ¹黄帅 ¹尹建刚 ²卢建刚 ²彭博³

作者信息

碳化硅晶片/磁流变抛光/大抛光模/表面粗糙度/电磁场

矿业与冶金

尹韶辉,邓子默,郭源帆,刘坚,黄帅,尹建刚,卢建刚,彭博..单晶碳化硅的电磁场励磁大抛光模磁流变抛光[J].表面技术,2020,49(10):309-315,7.

国家重点研发计划(2017YFE0116900) （2017YFE0116900）

国家自然科学基金(51675171) （51675171）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1001-3660

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