人工晶体学报2020，Vol.49Issue(9)：1641-1645,5.
多晶硅绕镀层的去除工艺研究
Research on Surround Coating Removal Technology for Polysilicon
张婷 1刘大伟 1宋志成 1倪玉凤 1杨露 1刘军保1
作者信息
- 1. 国家电投集团西安太阳能电力有限公司,西安 710000
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摘要
关键词
TOPCon电池/多晶硅绕镀层/腐蚀/硼掺杂/去除工艺分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张婷,刘大伟,宋志成,倪玉凤,杨露,刘军保..多晶硅绕镀层的去除工艺研究[J].人工晶体学报,2020,49(9):1641-1645,5.
