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栅极坡度角对TFT器件制程的影响

刘丹 闵泰烨 冯家海 方亮 刘毅 黄中浩 高坤坤 吴旭 田茂坤 王恺 张超 王瑞

液晶与显示2020,Vol.35Issue(10):1026-1035,10.
液晶与显示2020,Vol.35Issue(10):1026-1035,10.DOI:10.37188/YJYXS20203510.1026

栅极坡度角对TFT器件制程的影响

Influence of gate profile on TFT manufacturing process

刘丹 1闵泰烨 2冯家海 1方亮 1刘毅 2黄中浩 1高坤坤 3吴旭 1田茂坤 1王恺 1张超 1王瑞1

作者信息

  • 1. 重庆京东方光电科技有限公司,重庆400700
  • 2. 重庆大学物理学院,重庆400044
  • 3. 中国科学院重庆绿色智能技术研究院,重庆400714
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜晶体管/栅极坡度角/台阶覆盖率/信号线断线/栅极腐蚀

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘丹,闵泰烨,冯家海,方亮,刘毅,黄中浩,高坤坤,吴旭,田茂坤,王恺,张超,王瑞..栅极坡度角对TFT器件制程的影响[J].液晶与显示,2020,35(10):1026-1035,10.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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