液晶与显示2020，Vol.35Issue(10)：1036-1043,8.DOI:10.37188/YJYXS20203510.1036
铜工艺阵列基板上数据线和公共电极不可见的短路原因分析及改善
Research and improvement of data line and common line invisible short in copper process array substrate
林忱 1冯玉春 1陈曦 1汤桂泉 1李鑫 1周贺 1刘文瑞 1贠向南1
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- 1. 福州京东方光电科技有限公司,福建福州350300
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摘要
关键词
铜工艺/不可见/数据线/公共电极/短路分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
林忱,冯玉春,陈曦,汤桂泉,李鑫,周贺,刘文瑞,贠向南..铜工艺阵列基板上数据线和公共电极不可见的短路原因分析及改善[J].液晶与显示,2020,35(10):1036-1043,8.
