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硫族元素取代法制备原子层厚的MoS2-MoSe2平面异质结

高万冬 黄威 郑遗凡 金传洪

材料科学与工程学报2020,Vol.38Issue(5):706-710,745,6.
材料科学与工程学报2020,Vol.38Issue(5):706-710,745,6.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2020.05.003

硫族元素取代法制备原子层厚的MoS2-MoSe2平面异质结

Synthesis of Atomically Thin MoS2-MoSe2 Planar Heterostructure By Chalcogen Substitution

高万冬 1黄威 2郑遗凡 2金传洪1

作者信息

  • 1. 浙江工业大学 化学工程学院 ,浙江 杭州 310014
  • 2. 浙江大学 材料科学与工程学院 ,硅材料国家重点实验室 ,浙江 杭州 310027
  • 折叠

摘要

关键词

过渡金属硫族化合物/硫取代/扫描透射电子显微镜/平面异质结

分类

化学化工

引用本文复制引用

高万冬,黄威,郑遗凡,金传洪..硫族元素取代法制备原子层厚的MoS2-MoSe2平面异质结[J].材料科学与工程学报,2020,38(5):706-710,745,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51772265,61721005),国家重大研究计划资助项目(2014CB32500) (51772265,61721005)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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