光学精密工程2020，Vol.28Issue(9)：1924-1929,6.DOI:10.37188/OPE.20202809.1924
反应磁控溅射法制备氮化铝钪薄膜
Preparation of ScAIN thin film through reactive magnetron sputtering
摘要
关键词
压电薄膜/氮化铝钪/磁控溅射/工艺参数分类
数理科学引用本文复制引用
陈宇昕,刘玉菲,尚正国..反应磁控溅射法制备氮化铝钪薄膜[J].光学精密工程,2020,28(9):1924-1929,6.基金项目
重庆市基础科学与前沿技术研究项目(No.cstc2017jcyjAX0237) （No.cstc2017jcyjAX0237）
重庆市研究生研究与创新基金资助项目(No.CYS18036) （No.CYS18036）
国家863高技术研究与发展计划先进制造技术领域基金资助项目(No.2015AA042603) （No.2015AA042603）
国家重点研发计划基金资助项目(No.2018YFF010111200) （No.2018YFF010111200）
