太原理工大学学报2020，Vol.51Issue(6)：789-793,5.DOI:10.16355/j.cnki.issn1007-9432tyut.2020.06.002
HCVD方法中生长温度和氨气流量对InN晶体结构和形貌的影响
Effect of Growth Temperature and Ammonia Flow on the Crystal Structure and Morphology of InN Synthesized by HCVD
摘要
关键词
InN/InCl3/HCVD/取向/XRD分类
通用工业技术引用本文复制引用
张哲,于斌,李天保,余春燕,贾伟,郭俊杰,许并社..HCVD方法中生长温度和氨气流量对InN晶体结构和形貌的影响[J].太原理工大学学报,2020,51(6):789-793,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51672185) （51672185）
山西省自然科学基金资助项目(201801D121101) （201801D121101）
