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极紫外光刻胶产气的定性和定量检测

陈金平 李嫕 郝青山 王双青 杨树敏 赵俊 吴衍青 曾毅 于天君 杨国强

分析化学2020，Vol.48Issue(12)：1658-1665,8.
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分析化学2020，Vol.48Issue(12)：1658-1665,8.DOI:10.19756/j.issn.0253-3820.201366

极紫外光刻胶产气的定性和定量检测

Qualitative and Quantitative Measurement of Outgassing of Molecular Glass Photoresists under Extreme Ultraviolet Lithography

陈金平 1李嫕 1郝青山 2王双青 1杨树敏 3赵俊 4吴衍青 4曾毅 4于天君 1杨国强2

作者信息

  • 1. 中国科学院理化技术研究所光化学转换与功能材料重点实验室,北京100190
  • 2. 中国科学院大学,北京100039
  • 3. 中国科学院化学研究所光化学重点实验室,北京100190
  • 4. 中国科学院上海高等研究院上海同步辐射光源,上海201204
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摘要

关键词

光刻胶/产气/分子玻璃/极紫外/光刻

引用本文复制引用

陈金平,李嫕,郝青山,王双青,杨树敏,赵俊,吴衍青,曾毅,于天君,杨国强..极紫外光刻胶产气的定性和定量检测[J].分析化学,2020,48(12):1658-1665,8.

基金项目

本文系国家科技重大专项(Nos.2018ZX02102005,2011ZX02701)资助 （Nos.2018ZX02102005,2011ZX02701）

分析化学

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

0253-3820

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