液晶与显示2020，Vol.35Issue(3)：211-218,8.DOI:10.3788/YJYXS20203503.0211
磁控溅射法制备的MoOx薄膜材料特性
Properties of MoOx thin films prepared by magnetron sputtering
王效坤 1房伟华 1刘飞1
作者信息
- 1. 合肥京东方光电科技有限公司,安徽 合肥 230012
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摘要
关键词
低反射率/磁控溅射/MoOx/窄边框分类
通用工业技术引用本文复制引用
王效坤,房伟华,刘飞..磁控溅射法制备的MoOx薄膜材料特性[J].液晶与显示,2020,35(3):211-218,8.
