液晶与显示2020，Vol.35Issue(3)：219-226,8.DOI:10.3788/YJYXS20203503.0219
基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化
Process optimization based on products of pixel top design
吕艳明 1刘增利 1陆相晚 1李恒滨 1操彬彬 1栗芳芳 1安晖 1叶成枝 1李法杰 1杨增乾 1彭俊林 1冯耀耀1
作者信息
- 1. 合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽 合肥230001
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摘要
关键词
高开口率高级超维场转换技术/有机膜/等离子增强化学气相沉积/干法刻蚀分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
吕艳明,刘增利,陆相晚,李恒滨,操彬彬,栗芳芳,安晖,叶成枝,李法杰,杨增乾,彭俊林,冯耀耀..基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化[J].液晶与显示,2020,35(3):219-226,8.
