液晶与显示2020，Vol.35Issue(12)：1234-1239,6.DOI:10.37188/YJYXS20203512.1234
8光罩BCE结构IGZO-TFT的钝化层通孔柱状不良的改善
Columnar defect in the hole of BCE structured IGZO-TFT in 8-mask process
刘浩 1常维 1王志强 1刘勃1
作者信息
- 1. 重庆京东方光电科技有限公司,重庆 400700
- 折叠
摘要
关键词
ITO/柱状不良/结晶/通孔刻蚀分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘浩,常维,王志强,刘勃..8光罩BCE结构IGZO-TFT的钝化层通孔柱状不良的改善[J].液晶与显示,2020,35(12):1234-1239,6.
