发光学报2020，Vol.41Issue(3)：253-258,6.DOI:10.3788/fgxb20204103.0253
氧等离子体处理对GaAs表面单层自组装SiO2纳米球薄膜的影响
Effect of Oxygen Plasma Treatment on Monolayer Self-assembled SiO2 Nanosphere Thin Films on GaAs Surface
摘要
关键词
SiO2纳米球/氧等离子体/ICP刻蚀分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王智栋,刘云,彭新村,邹继军,朱志甫,邓文娟..氧等离子体处理对GaAs表面单层自组装SiO2纳米球薄膜的影响[J].发光学报,2020,41(3):253-258,6.基金项目
国家自然科学基金(11875012,61204071) （11875012,61204071）
江西省新能源工艺及装备工程技术研究中心开放基金(JXNE2018-05)资助项目 （JXNE2018-05）
