人工晶体学报2020，Vol.49Issue(12)：2221-2229,9.
昆明物理研究所分子束外延碲镉汞薄膜技术进展
Progress in MBE Growth of HgCdTe at Kunming Institute of Physics
孔金丞 1胡旭 1王向前 1李雄军 1赵俊 1李艳辉 1杨春章 1杨晋 1覃钢 1陈卫业 1陈逍玄 1任洋 1王善力1
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摘要
关键词
分子束外延/碲镉汞/碲锌镉衬底/异质衬底/红外探测器分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
孔金丞,胡旭,王向前,李雄军,赵俊,李艳辉,杨春章,杨晋,覃钢,陈卫业,陈逍玄,任洋,王善力..昆明物理研究所分子束外延碲镉汞薄膜技术进展[J].人工晶体学报,2020,49(12):2221-2229,9.
