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硅片氧化过程及其对硅中杂质分布影响的分析

黄祖洽 黄雪梅

北京师范大学学报：自然科学版Issue(3)：P.27-35,9.
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北京师范大学学报：自然科学版Issue(3)：P.27-35,9.

硅片氧化过程及其对硅中杂质分布影响的分析

黄祖洽 1黄雪梅1

作者信息

  • 1. 北京师范大学低能核物理研究所
  • 折叠

摘要

关键词

硅片氧化/活动边界/扩散/分凝/杂质再分布/D′Alenbert变分原理

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

黄祖洽,黄雪梅..硅片氧化过程及其对硅中杂质分布影响的分析[J].北京师范大学学报：自然科学版,1988,(3):P.27-35,9.

北京师范大学学报：自然科学版

OACSCD

0476-0301

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