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气相沉积技术在原子制造领域的发展与应用

郭秦敏 秦志辉

物理学报2021，Vol.70Issue(2)：193-207,15.
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物理学报2021，Vol.70Issue(2)：193-207,15.DOI:10.7498/aps.70.20201436

气相沉积技术在原子制造领域的发展与应用

Development and application of vapor deposition technology in atomic manufacturing

郭秦敏 1秦志辉2

作者信息

  • 1. 武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081
  • 2. 湖南大学物理与微电子科学学院, 微纳光电器件及应用教育部重点实验室, 长沙 410082
  • 折叠

摘要

关键词

气相沉积/原子制造/分子束外延/原子层沉积

引用本文复制引用

郭秦敏,秦志辉..气相沉积技术在原子制造领域的发展与应用[J].物理学报,2021,70(2):193-207,15.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:51772087)和中国科学院战略性先导科技专项(B类)(批准号:XDB30000000)资助的课题. （批准号:51772087）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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