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基于化学气相沉积法铜基大面积单晶双层石墨烯薄膜的快速生长

张津铭 牟海川 谢海芬

华东理工大学学报(自然科学版)2021,Vol.47Issue(1):123-128,6.
华东理工大学学报(自然科学版)2021,Vol.47Issue(1):123-128,6.DOI:10.14135/j.cnki.1006-3080.20191111001

基于化学气相沉积法铜基大面积单晶双层石墨烯薄膜的快速生长

Rapid Growth of Large-Area Single-Crystal Double-Layer Graphene Film on Copper Substrate Based on Chemical Vapor Deposition

张津铭 1牟海川 1谢海芬1

作者信息

  • 1. 华东理工大学理学院物理系,上海 200237
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摘要

关键词

石墨烯/化学气相沉积/双氧钝化

分类

数理科学

引用本文复制引用

张津铭,牟海川,谢海芬..基于化学气相沉积法铜基大面积单晶双层石墨烯薄膜的快速生长[J].华东理工大学学报(自然科学版),2021,47(1):123-128,6.

华东理工大学学报(自然科学版)

OA北大核心CHSSCDCSCD

1006-3080

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