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口罩技术发展专利分析及企业专利布局探讨

刘俊 吴旭东

科技广场Issue(3):36-43,8.
科技广场Issue(3):36-43,8.

口罩技术发展专利分析及企业专利布局探讨

Analysis on the Patent Development of Mask Technology and Discussion on Enterprise Patent Layout

刘俊 1吴旭东1

作者信息

  • 1. 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心,四川成都610213
  • 折叠

摘要

关键词

口罩/专利/申请人/技术发展/专利布局

分类

社会科学

引用本文复制引用

刘俊,吴旭东..口罩技术发展专利分析及企业专利布局探讨[J].科技广场,2020,(3):36-43,8.

科技广场

1671-4792

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