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ITO区黑化法修复亮点理论模型及工艺参数分析

吴国东 乔律华 韩海滨 王彬 张少芬 聂竹华 蔡云牧 王贺卫

液晶与显示2021,Vol.36Issue(2):246-257,12.
液晶与显示2021,Vol.36Issue(2):246-257,12.DOI:10.37188/CJLCD.2020-0213

ITO区黑化法修复亮点理论模型及工艺参数分析

Theoretical model and process parameter analysis of ITO area blackening method for repairing bright spot

吴国东 1乔律华 1韩海滨 1王彬 1张少芬 1聂竹华 1蔡云牧 1王贺卫1

作者信息

  • 1. 合肥京东方显示技术有限公司,安徽 合肥 230012
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摘要

关键词

黑化/修复/工艺参数/修复成功率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

吴国东,乔律华,韩海滨,王彬,张少芬,聂竹华,蔡云牧,王贺卫..ITO区黑化法修复亮点理论模型及工艺参数分析[J].液晶与显示,2021,36(2):246-257,12.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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