液晶与显示2021，Vol.36Issue(2)：258-264,7.DOI:10.37188/CJLCD.2020-0151
TFT-LCD四次光刻工艺中的光刻胶剩余量
Remain of photoresist in halftone process based on TFT-LCD technology
蒋雷 1黄学勇 1刘良军 1李广圣 1王尖 1李向峰 1慕绍帅 1邵博1
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- 1. 成都中电熊猫显示科技有限公司,四川 成都 610200
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摘要
关键词
薄膜晶体管/四次光刻/半光刻技术/光刻胶膜残量/均一性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
蒋雷,黄学勇,刘良军,李广圣,王尖,李向峰,慕绍帅,邵博..TFT-LCD四次光刻工艺中的光刻胶剩余量[J].液晶与显示,2021,36(2):258-264,7.
