核化学与放射化学2021，Vol.43Issue(1)：57-63,7.DOI:10.7538/hhx.2020.YX.2019051
ThF4浓度对CeF3-ThF4-LiCl-KCl熔盐中Th电解沉积的影响
Effect of ThF4 Concentration on Th Electrodeposition in CeF3-ThF4-LiCl-KCl Molten Salt
摘要
关键词
ThF4/LiCl-KCl/电解沉积/浓度分类
化学化工引用本文复制引用
王先彬,蒋锋,朱铁建,郑海洋,佘长锋,黄卫,李晴暖..ThF4浓度对CeF3-ThF4-LiCl-KCl熔盐中Th电解沉积的影响[J].核化学与放射化学,2021,43(1):57-63,7.基金项目
中国科学院战略科技先导专项(XDA02030000) （XDA02030000）
国家自然科学基金资助项目(21601200) （21601200）
中国科学院前沿科学重点研究项目(QYZDY-SSW-JSC016) （QYZDY-SSW-JSC016）
中国科学院青年创新促进会资助项目(2017307) （2017307）
