深紫外双层金属光栅偏振器的设计与分析OA北大核心CSCDCSTPCD
Design and analysis of bilayer metallic grating polarizer in deep ultraviolet band
193 nm波长浸没式步进扫描投影光刻机是实现45 nm及以下技术节点集成电路制造的核心装备.增大数值孔径是提高光刻分辨率的有效途径,而大数值孔径曝光系统的偏振性能严重影响光刻成像质量.光刻机曝光系统偏振参数的高精度检测是对其进行有效调控的前提.基于光栅的偏振检测技术能实现浸没式光刻机偏振检测装置的小型化,满足其快速、高精度在线检测的需求,该技术中的关键部件是结构紧凑且偏振性能良好的光栅.本文基于反常偏振效应和双层金属光栅对TE偏振光的透射增强原…查看全部>>
吴芳;步扬;刘志帆;王少卿;李思坤;王向朝
中国科学院上海光学精密机械研究所, 信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 材料与光电研究中心, 北京 100049中国科学院上海光学精密机械研究所, 信息光学与光电技术实验室, 上海 201800中国科学院大学, 材料与光电研究中心, 北京 100049上海大学机电工程与自动化学院, 上海 200444中国科学院上海光学精密机械研究所, 信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
双层金属光栅偏振检测深紫外浸没式光刻机
《物理学报》 2021 (4)
178-188,11
国家科技重大专项(批准号: 2016ZX02201-001)、广西高校光电信息处理重点实验室开放基金(批准号: KFJJ2016-03)和上海市 科委科技基金(批准号: 18511104500)资助的课题.
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