脉冲激光沉积无氢钨掺杂类金刚石膜的摩擦与机械性能OA北大核心CSCD
Tribological and mechanical properties of non-hydrogenated W-doped diamond-like carbon film prepared by pulsed laser deposition
采用脉冲激光沉积技术制备出无氢钨掺杂非晶态类金刚石膜.膜中的钨含量与靶材中的钨含量保持稳定的线性关系,显示了脉冲激光沉积在难熔金属掺杂技术方面的亮点.由于碳-钨结构的形成和表面粗糙度影响,膜层的干摩擦系数随着钨含量的增加显现出先减后增的趋势,钨含量为9.67 at.％时达到最低值0.091.钨含量的增大降低了类金刚石膜纳米硬度和杨氏模量,但最佳的膜层耐磨性参数并非表现在硬度最大(52.2 GPa)的纯类金刚石膜中,而是出现在低掺杂含量(6.28 at.％)的类金刚石膜中.研究为脉冲激光沉积技术制备低摩擦、高硬度无氢钨掺杂类金刚石膜的应用提供了技术实践.
陆益敏;黄国俊;程勇;王赛;刘旭;韦尚方;米朝伟
陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075陆军工程大学军械士官学校, 武汉 430075
脉冲激光沉积钨掺杂金刚石膜摩擦性能纳米压痕
《物理学报》 2021 (4)
303-309,7
"核高基"科技重大专项(批准号: 2014ZX01005-101-003)和国家自然科学基金(批准号: 61705268)资助的课题.
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