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8英寸硅外延片表面质量提升

仇光寅 冯永平 孙健

中国标准化Issue(3)：46-50,74,6.
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中国标准化Issue(3)：46-50,74,6.DOI:10.3969/j.issn.1002-5944.2021.03.001

8英寸硅外延片表面质量提升

Improved Surface Quality of 8-inch Silicon Epitaxial Wafers

仇光寅 1冯永平 1孙健1

作者信息

  • 1. 南京国盛电子有限公司
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摘要

关键词

表面缺陷/设备改进/6S管理/成效

引用本文复制引用

仇光寅,冯永平,孙健..8英寸硅外延片表面质量提升[J].中国标准化,2021,(3):46-50,74,6.

中国标准化

OACHSSCD

1002-5944

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