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面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术

吉建伟 山村和也 邓辉

物理学报2021，Vol.70Issue(6)：68-80,13.
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物理学报2021，Vol.70Issue(6)：68-80,13.DOI:10.7498/aps.70.20202014

面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术

Plasma-assisted polishing for atomic surface fabrication of single crystal SiC

吉建伟 1山村和也 2邓辉3

作者信息

  • 1. 南方科技大学前沿与交叉科学研究院, 深圳 518055
  • 2. 南方科技大学机械与能源工程系, 深圳 518055
  • 3. 日本大阪大学工学院精密科学与技术系, 大阪 5650871
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摘要

关键词

单晶SiC/原子及近原子尺度制造/等离子体/表面改性

引用本文复制引用

吉建伟,山村和也,邓辉..面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术[J].物理学报,2021,70(6):68-80,13.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:52035009,52005243)和深圳市科技创新委员会国际合作项目(批准号:GJHZ20180928155412525)资助的课题. （批准号:52035009,52005243）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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