工程科学学报2021，Vol.43Issue(3)：385-391,7.
射频磁控溅射制备(In,Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质
Electrical and magnetic properties of(In,Co)co-doped ZnO films deposited using radio frequency magnetron sputtering
摘要
关键词
稀磁半导体/ICZO/射频磁控溅射/束缚磁极化子/磁学性质分类
通用工业技术引用本文复制引用
刘芬,代明江,林松盛,石倩,孙珲..射频磁控溅射制备(In,Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质[J].工程科学学报,2021,43(3):385-391,7.基金项目
国家自然科学基金资助项目(62004117) （62004117）
中国博士后基金面上资助项目(2019M651199) （2019M651199）
山东省自然科学基金资助项目(ZR2018QEM002) （ZR2018QEM002）
广东省现代表面工程技术重点实验室课题资助项目 （）
山东大学(威海)青年学者未来计划资助项目 （威海）
