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光刻调焦调平测量系统算法比较研究

范伟 李世光 武志鹏 段晨 宗明成

计算机与数字工程2021，Vol.49Issue(3)：427-432,438,7.
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计算机与数字工程2021，Vol.49Issue(3)：427-432,438,7.DOI:10.3969/j.issn.1672-9722.2021.03.001

光刻调焦调平测量系统算法比较研究

Comparative Study on Algorithms of Focusing and Levelling Measurement System in Lithographic Tool

范伟 1李世光 2武志鹏 1段晨 2宗明成1

作者信息

  • 1. 中国科学院微电子研究所 北京 100029
  • 2. 中国科学院大学 北京 100049
  • 折叠

摘要

关键词

光刻/调焦调平/精度/拟合算法

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

范伟,李世光,武志鹏,段晨,宗明成..光刻调焦调平测量系统算法比较研究[J].计算机与数字工程,2021,49(3):427-432,438,7.

基金项目

国家科技重大专项项目(编号:2017ZX02101006-003)资助. （编号:2017ZX02101006-003）

计算机与数字工程

OACSTPCD

1672-9722

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