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高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征

杨数强 王军强 张超 陈宇昕 尚正国

光学精密工程2021,Vol.29Issue(1):21-27,7.
光学精密工程2021,Vol.29Issue(1):21-27,7.DOI:10.37188/OPE.20212901.0021

高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征

Preparation and characterization of ScAlN thin film with high scandium concentration

杨数强 1王军强 1张超 2陈宇昕 3尚正国3

作者信息

  • 1. 洛阳师范学院物理与电子信息学院,河南洛阳471000
  • 2. 北京卫星环境工程研究所,北京100094
  • 3. 重庆大学光电工程学院,重庆400044
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜/磁控溅射/氮化铝钪/半高全宽/d33压电常数

分类

数理科学

引用本文复制引用

杨数强,王军强,张超,陈宇昕,尚正国..高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征[J].光学精密工程,2021,29(1):21-27,7.

基金项目

重庆市基础科学与前沿技术研究项目(No.cstc2017jcyjAX0237) (No.cstc2017jcyjAX0237)

国家863高技术研究发展计划资助项目(No.2015AA042603) (No.2015AA042603)

国家重点研发计划资助项目(No.2018YFF01011200) (No.2018YFF01011200)

国家自然科学基金青年基金资助项目(No.61804016) (No.61804016)

国家自然科学基金资助项目(No.51775070) (No.51775070)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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