| 注册
首页|期刊导航|液晶与显示|莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响

莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响

胡叶廷 周雷勇 李晓娜 远藤浩史 森崇德

液晶与显示2021,Vol.36Issue(4):504-508,5.
液晶与显示2021,Vol.36Issue(4):504-508,5.DOI:10.37188/CJLCD.2020-0254

莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响

Influence of tropane based additives on the image sticking for FFS model

胡叶廷 1周雷勇 1李晓娜 1远藤浩史 2森崇德2

作者信息

  • 1. 捷恩智液晶材料有限公司,江苏 苏州 215011
  • 2. JNC 石油化学株式会社,日本 千叶 市原 290-8551
  • 折叠

摘要

关键词

边缘场切换广角技术/残像/负性液晶/莨菪烷基添加剂

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

胡叶廷,周雷勇,李晓娜,远藤浩史,森崇德..莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响[J].液晶与显示,2021,36(4):504-508,5.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文