| 注册
首页|期刊导航|表面技术|直流磁控溅射技术在柔性基底上制备光电屏蔽薄膜的研究

直流磁控溅射技术在柔性基底上制备光电屏蔽薄膜的研究

高恒蛟 徐友慧 熊玉卿 王艺 王虎 李林 何延春

表面技术2021,Vol.50Issue(3):225-231,7.
表面技术2021,Vol.50Issue(3):225-231,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.03.022

直流磁控溅射技术在柔性基底上制备光电屏蔽薄膜的研究

Study on Preperation of Photoelectric Shielding Film by DC Magnetron Sputtering Technology on Flexible Polyimide Substrate

高恒蛟 1徐友慧 1熊玉卿 1王艺 1王虎 1李林 1何延春1

作者信息

  • 1. 兰州空间技术物理研究所,兰州 730000
  • 折叠

摘要

关键词

直流磁控溅射/聚酰亚胺/太阳吸收率/电磁信号衰减/热控薄膜

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

高恒蛟,徐友慧,熊玉卿,王艺,王虎,李林,何延春..直流磁控溅射技术在柔性基底上制备光电屏蔽薄膜的研究[J].表面技术,2021,50(3):225-231,7.

基金项目

国家自然科学基金项目(11705074) (11705074)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文