云南师范大学学报（自然科学版）2021，Vol.41Issue(2)：12-21,10.DOI:10.7699/j.ynnu.ns-2021-016
氧化铪薄膜的制备及光电性能研究进展
Research Progress in Preparation and Photoelectric Properties of Hafnium Oxide Films
摘要
关键词
HfO2薄膜/制备方法/光电性能/研究进展分类
通用工业技术引用本文复制引用
万燕飞,李赛,杨培志..氧化铪薄膜的制备及光电性能研究进展[J].云南师范大学学报（自然科学版）,2021,41(2):12-21,10.基金项目
国家自然科学基金资助项目(U1802257) （U1802257）
云南省基础研究重点资助项目(2017FA024)和云南省高校科技创新团队支持计划资助项目. （2017FA024）
