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混合集成电路外壳内部氢含量控制

刘旭 张玉 张志庆 谷丽 张鹏 高岭

数码设计．CG WORLD2021，Vol.10Issue(9)：P.173-174,2.
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数码设计．CG WORLD2021，Vol.10Issue(9)：P.173-174,2.

混合集成电路外壳内部氢含量控制

刘旭 1张玉 1张志庆 1谷丽 1张鹏 1高岭1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄050051
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摘要

关键词

混合集成电路/外壳/氢含量

分类

化学化工

引用本文复制引用

刘旭,张玉,张志庆,谷丽,张鹏,高岭..混合集成电路外壳内部氢含量控制[J].数码设计．CG WORLD,2021,10(9):P.173-174,2.

数码设计．CG WORLD

1672-9129

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