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高分辨耐辐照硅探测器的研发与产业化应用

赵一英 廖非易

科技成果管理与研究2021，Vol.16Issue(3)：70-73,4.
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科技成果管理与研究2021，Vol.16Issue(3)：70-73,4.DOI:10.3772/j.issn.1673-6516.2021.03.023

高分辨耐辐照硅探测器的研发与产业化应用

赵一英 1廖非易2

作者信息

  • 1. 中国工程物理研究院材料研究所
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摘要

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赵一英,廖非易..高分辨耐辐照硅探测器的研发与产业化应用[J].科技成果管理与研究,2021,16(3):70-73,4.

科技成果管理与研究

OACHSSCD

1673-6516

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