强激光与粒子束2021，Vol.33Issue(4)：1-6,6.DOI:10.11884/HPLPB202133.200317
氨水-六甲基二硅胺烷对SiO2化学膜环境稳定性的影响
Influence of ammonia-hexamethyldisilazane on environmental stability of SiO2 chemical film
陈西兵 1蒋晓东 2曹林洪 2符亚军 1严鸿维 1晏良宏2
作者信息
- 1. 西南科技大学 材料科学与工程学院,四川 绵阳 621010
- 2. 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900
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摘要
关键词
溶胶-凝胶技术/SiO2化学膜/氨水-HMDS/邻苯二甲酸二丁酯/激光损伤阈值分类
化学化工引用本文复制引用
陈西兵,蒋晓东,曹林洪,符亚军,严鸿维,晏良宏..氨水-六甲基二硅胺烷对SiO2化学膜环境稳定性的影响[J].强激光与粒子束,2021,33(4):1-6,6.
