武汉工程大学学报2021，Vol.43Issue(2)：187-191,5.DOI:10.19843/j.cnki.CN42-1779/TQ.202011023
硫粉气化温度对制备WS2薄膜的影响
Effect of Gasification Temperature of Sulfur Powder on Preparation of Tungsten Disulfide Thin Films
摘要
关键词
WS2薄膜/表面形貌/熔融盐/化学气相沉积/气化温度分类
数理科学引用本文复制引用
陶雪华,夏述平,崔宇,邱云帆,熊礼威..硫粉气化温度对制备WS2薄膜的影响[J].武汉工程大学学报,2021,43(2):187-191,5.基金项目
湖北省教育厅重点项目(D20191503) （D20191503）
武汉工程大学科学基金(K201801) （K201801）
武汉工程大学第十二届研究生教育创新基金(CX2020136) （CX2020136）
