物理学报2021，Vol.70Issue(9)：99-109,11.DOI:10.7498/aps.70.20202245
多孔材料的低温刻蚀技术
Cryogenic etching of porous material
摘要
关键词
低温等离子体/多孔材料/等离子体损伤/低温刻蚀/孔填充引用本文复制引用
张权治,张雷宇,马方方,王友年..多孔材料的低温刻蚀技术[J].物理学报,2021,70(9):99-109,11.基金项目
国家自然科学基金(批准号:11675036,11935005)和大连理工大学启动经费(批准号:DUT19RC(3)045)资助的课题. （批准号:11675036,11935005）
