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940nm水平腔面发射半导体激光器设计与制备

术玲 海一娜 邹永刚 范杰 王傲

发光学报2021,Vol.42Issue(2):223-230,8.
发光学报2021,Vol.42Issue(2):223-230,8.DOI:10.37188/CJL.20200346

940nm水平腔面发射半导体激光器设计与制备

Design and Fabrication of 940 nm Horizontal Cavity Surface Emitting Semiconductor Laser

术玲 1海一娜 1邹永刚 1范杰 1王傲1

作者信息

  • 1. 长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春 130022
  • 折叠

摘要

关键词

面发射分布反馈(SE-DFB)半导体激光器/二阶光栅/光栅形貌/耦合因子

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

术玲,海一娜,邹永刚,范杰,王傲..940nm水平腔面发射半导体激光器设计与制备[J].发光学报,2021,42(2):223-230,8.

基金项目

吉林省科技发展计划(20190302052GX,20180519018JH) (20190302052GX,20180519018JH)

吉林省教育厅"十三五"科技项目(JJKH20190543KJ)资助 (JJKH20190543KJ)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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