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磁控溅射ZrN薄膜的生长机理及光学性能

高洁 姚威振 杨少延 魏洁 李成明 魏鸿源

人工晶体学报2021，Vol.50Issue(5)：831-837,844,8.
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人工晶体学报2021，Vol.50Issue(5)：831-837,844,8.

磁控溅射ZrN薄膜的生长机理及光学性能

Growth Mechanism and Optical Properties of ZrN Films by Magnetron Sputtering

高洁 1姚威振 2杨少延 1魏洁 1李成明 2魏鸿源3

作者信息

  • 1. 中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京 100083
  • 2. 中国科学院大学材料与光电研究中心,北京 100049
  • 3. 南京佑天金属科技有限公司,南京 211164
  • 折叠

摘要

关键词

氮化锆/反应磁控溅射/单一取向/表面形貌/柱状生长/光学性能

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

高洁,姚威振,杨少延,魏洁,李成明,魏鸿源..磁控溅射ZrN薄膜的生长机理及光学性能[J].人工晶体学报,2021,50(5):831-837,844,8.

基金项目

国家重点研发计划(2017YFB0404201) （2017YFB0404201）

国家自然科学基金(61774147) （61774147）

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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